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UV光催化设备工艺原理
发布时间:2021-03-09   点击次数:191次

工艺原理:
通过采用紫外线,破坏有机废气分子的化学键,使之裂解形成游离状态的原子或基团(C*、H*、O*等);同时通过裂解混合空气中的氧气,使之形成游离的氧原子并结合生成臭氧:UV+O2→O-+O*(活性氧)  O+O2→O3(臭氧)。具有强氧化性的臭氧(O3)与有机废气分子被裂解生成的原子发生氧化反应,形成H2O和CO2。

净化效果与废气分子的键能、废气浓度以及含氧量有关。整个净化过程无需添加任何化学助剂或者特殊限制条件。从实际情况来看,UV灯波长的选择以及废气在设备内的合理停留时间是影响UV光氧化设备去除效率的主要影响因素。 

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